高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實驗用

一、 產品簡介：

        在傳統(tǒng)的無機分析實驗中，都會用到用高純酸來清洗設備以達到去除雜質的效果，且在實驗中所用到的酸也是需要純凈度很高能達到實驗級別的，然而市售的超純酸往往由于價格較貴，所以很難滿足日常分析中對實驗級高純酸的大量需求。

         高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實驗用，酸純化儀：又稱酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結果的偏差與錯誤。

    因此，提純優(yōu)化酸的質量，是為經濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

         酸純化儀是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。

三、相關參數(shù)：

使用注意事項：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質。

2、加酸前須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

四、 產品特點：

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料，保證了容器內外的純凈度，全部采用高純凈的特氟龍材料可以避免其他金屬雜質的介入，也可以使得在酸環(huán)境下的提取中更好的操作，控制盒分離保護了電子元器件被腐蝕，延長了使用壽命。可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。

2、實驗證明將金屬雜質含量約10ppb的酸經過一次蒸餾后，金屬雜質含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數(shù)，酸純化的則越純凈。

【電子級酸】：

適用于半導體生產過程中所用產品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據質控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個級別：MOS級，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在100PPb左右

VLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10~100PPb

ULSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10PPb以下

SLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在1PPB以下

所謂的電子級酸，其實就是ppb或者ppt級的高純酸。

實驗數(shù)據（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優(yōu)級純的HF

蒸餾后，經中國地質大學地質過程與礦產資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質的含量：

南京濱正紅儀器有限公司

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